Zasada działania odkurzacza plazmowego

Plasma cleaners use plasma discharge to generate a high-energy oxidation reaction. Using oxygen or a mixed gas (such as oxygen + hydrogen) in the discharge zone, they form an ion plasma (energy range 5-15 eV). The high-energy electrons and radiation from these plasmas decompose surface contaminants (organic matter oxidation rate >90%), wytwarzając produkty gazowe lub rozpuszczalne. Technologia ta umożliwia czyszczenie-bezkontaktowe-chemicznie, dzięki czemu nadaje się do obróbki powierzchni metali (takich jak stal nierdzewna i aluminium) oraz polimerów (takich jak PTFE), a szczególnie-nadaje się szczególnie dobrze do czyszczenia precyzyjnych podzespołów elektronicznych i urządzeń medycznych.

Jeśli chodzi o skuteczność czyszczenia, typowy czas obróbki wynosi od 2 do 10 minut na partię. Może usuwać zanieczyszczenia w skali nano (wielkość cząstek<100 nm), reduce surface contact angles by over 40°, and significantly improve material adhesion. Important operating parameters: maintain power between 50-1000W, air pressure between 10-100 Pa, and avoid overheating the substrate (temperature <150°C).